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J-GLOBAL ID：200903080822248151

マイクロリソグラフィー用フォトレジスト組成物中の溶解阻害剤

Inventor：
シャハブ, ヤロミ

About シャハブ, ヤロミ

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ダークス,フランシウス. ヨハネス, マリエ

About ダークス,フランシウス. ヨハネス, マリエ

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リャプノフ, アンドレー, ヤロスラヴォヴィッチ

About リャプノフ, アンドレー, ヤロスラヴォヴィッチ


Applicant, Patent owner：
ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.

About ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.


Agent (3)： 山田 行一 ,  野田 雅一 ,  清水 義憲
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006521024
Publication number (International publication number)：2007501418
Application date： Jul. 21, 2004
Publication date： Jan. 25, 2007
Summary：
本発明は、(a)ポリマーバインダーと、(b)光活性化合物と、(c)溶解阻害剤と、を含む、10〜165nmで使用するのに好適なフォトレジスト組成物に関する。ここで、溶解阻害剤は、少なくとも(i)2個の芳香族基と(ii)フッ素と(iii)非ブロック化されたときにpKa<12を有するブロック化酸基とを含む。好ましい溶解阻害剤は、架橋炭素原子がフッ素化脂肪族基で置換されている、場合によりブロック化されたビスフェノール誘導体である。
Claim (excerpt)：
(a)ポリマーバインダーと、 (b)光活性化合物と、 (c)溶解阻害剤であって、少なくとも、 (i)2個の芳香族基と、 (ii)フッ素と、 (iii)非ブロック化されたときにpKa<12を有するブロック化酸基とを含む溶解阻害剤と、 を含む、10〜165nmで使用するのに好適なフォトレジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027 ,  C07C 69/96
FI (5)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/40 521 ,  H01L21/30 502R ,  C07C69/96 Z
F-Term (18)：
2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H096AA25 ,  2H096BA09 ,  2H096BA20 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  4H006AA01 ,  4H006AB80 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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