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J-GLOBAL ID：200903080862272012
露光用マスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995055647
Publication number (International publication number)：1996248616
Application date： Mar. 15, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：
【要約】【目的】 レベンソン法とハーフトーン法を組み合わせた露光方式において、周期パターンと孤立のパターンの像強度のバランスをはかる。【構成】 透光性基板101 上に透光性位相シフタ102 及び半透明位相シフタ103からなるマスクパターンを形成した露光用マスクにおいて、位相シフタ102,103は、各々のパターンを通過する露光光に対してそれぞれ180度の位相差を与えるものであり、ライン&スペース部では、隣接するラインの一方のみに位相シフタ102 が形成され、スペースは、位相シフタ103 からなる領域と位相シフタ102,103 がオーバラップした領域との2つの領域に分離され、かつ分離された各領域は露光光に対し隣接するラインと180度の位相差を有し、孤立部では、開口部104 の周辺に位相シフタ102,103 のオーバーラップした領域が形成され、その外側に位相シフタ103 のみからなる領域が形成されている。
Claim (excerpt)：
透光性基板と、この透光性基板上に配置された透光性位相シフトパターン及び半透明位相シフトパターンからなるマスクパターンとを備えた露光用マスクにおいて、前記マスクパターンを構成する各位相シフトパターンは、各々のパターンを通過する露光光に対してそれぞれ180度の位相差を与えるものであり、且つ透光性位相シフトパターンと半透明位相シフトパターンとは一部オーバーラップしている領域を持ち、前記マスクパターンの少なくとも1つの開口部が、隣接する領域の少なくとも一部に透光性位相シフトパターンと半透明位相シフトパターンがオーバーラップしている領域を有し、且つその外側に半透明位相シフトパターンからなる領域を有することを特徴とする露光用マスク。
IPC (2)：
FI (3)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
