Pat

J-GLOBAL ID：200903080870343468

スクシンイミド誘導体、その製法及び用途

Inventor： 釜淵 明 ,  竹山 尚幹
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995280233
Publication number (International publication number)：1997124598
Application date： Oct. 27, 1995
Publication date： May. 13, 1997
Summary：

【要約】【課題】 酸の作用により開裂しうる保護基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有するレジスト組成物の酸発生剤として使用できる化合物を提供し、これを用いて諸性能に優れるレジスト組成物を提供する。【解決手段】 式(I)で示されるN-(10-カンファースルホニルオキシ)スクシンイミド。N-ヒドロキシスクシンイミドを、10-カンファースルホン酸、その塩またはハライドと反応させることにより、この化合物が製造される。式(I)の化合物を酸発生剤として用い、酸の作用により開裂しうる保護基を有するアルカリ可溶性樹脂と配合して、レジスト組成物が得られる。【効果】 式(I)の化合物を酸発生剤として含むレジスト組成物は、耐熱性、残膜率、塗布性、プロファイル、感度、解像度などの諸性能に優れ、かつ遅延効果及びパターンの密着性が改良される。

Claim (excerpt)：

式(I)で示されるN-(10-カンファースルホニルオキシ)スクシンイミド。

IPC (4)：

C07D207/46 ,  B01J 31/02 102 ,  G03F 7/004 503 ,  C07B 61/00 300

FI (4)：

C07D207/46 ,  B01J 31/02 102 X ,  G03F 7/004 503 ,  C07B 61/00 300