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J-GLOBAL ID：200903080881884088

スパッタリング装置

Inventor： 内山 朋幸
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 國分 孝悦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993090740
Publication number (International publication number)：1994280007
Application date： Mar. 25, 1993
Publication date： Oct. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 コリメータの交換に伴うスパッタリング装置の停止時間を低減させて高稼働率を維持することができるスパッタリング装置を提供する。【構成】 スパッタリングチャンバ1に隣接したコリメータのクリーニングを行うクリーニング用チャンバ9を新たに設け、このクリーニング用チャンバ9内で既にクリーニングされたコリメータ4bとスパッタリングチャンバ1内のスパッタ膜が付着したコリメータ4aとを相互に、大気開放せずに両チャンバ1及び9間のゲートバルブ8を介して、伸縮自在のアーム12a及び13aを備えたコリメータホルダー12及び13によって受渡しする。

Claim (excerpt)：

真空室内に配置された陽極と、前記陽極との間に放電空間を画定し、且つ前記陽極と対面するように前記真空室内に配置された陰極ターゲットと、前記陽極と前記陰極ターゲットとの間に配置されて、前記陽極へ垂直に入射するスパッタリング粒子のみ選択的に通過させる機能を有するコリメータとを具備するスパッタリング装置において、前記真空室にゲートバルブを介して接続された前記コリメータをクリーニングするクリーニングチャンバを具備することを特徴とするスパッタリング装置。

IPC (2)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/203