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J-GLOBAL ID：200903080920742458

イオン注入装置

Inventor： 西川 和宏
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993020709
Publication number (International publication number)：1994215724
Application date： Jan. 13, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】 静電走査に伴うイオンビームのビームサイズの変化を小さくして、ターゲットに対する注入均一性を向上させることができるようにしたイオン注入装置を提供する。【構成】 走査電源14a内に、直流のオフセット電源24と、それからの正の電圧をインバータ18からの出力電圧および信号発生器16からの出力電圧にそれぞれ加算するアナログ加算器26および28を追加した。そして、両加算器26および28からの出力電圧を高電圧アンプ20および22でそれぞれ増幅して走査電圧V3 およびV4 を作り、これを走査電極4および6に印加するようにした。この走査電圧V3 およびV4 は、三角波形の走査電圧に同じ極性かつ同じ大きさのオフセット電圧をそれぞれ加えたものとなる。

Claim (excerpt)：

相対向する一対の走査電極を有し、この両走査電極に180度位相の異なる走査電圧をそれぞれ印加してイオンビームを静電的に走査するようにしたイオン注入装置において、直流のオフセット電源を設けて、前記両走査電極に印加される走査電圧に、互いに同じ極性のオフセット電圧をそれぞれ加えるようにしたことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (4)：

H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  C23C 14/54 ,  H01L 21/265

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-007341
  
• イオン注入装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-185100   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開昭63-045744
  
• 特開昭58-147949