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J-GLOBAL ID：200903080930414980

露光用レチクルのパターン検査方法

Inventor： 上床 正人
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 柏谷 昭司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993059888
Publication number (International publication number)：1994273915
Application date： Mar. 19, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：

【要約】【目的】 露光用レチクルのパターン検査方法に関し、設計データから形成される基準画像データのパターンコーナー部に、露光用レチクルの透過光イメージによって形成される画像データと同様の丸みを帯びた形状をもたせることによって、両画像データを高精度で比較できるようにする。【構成】 設計データによって形成された画像データ1を、実レチクルの透過光イメージに近似した複数階調の明度を有する光分布シミュレーションをして修正後の基準画像データ2を形成し、この修正後の基準画像データ2と、実レチクルの透過光イメージによって形成した画像データを比較する。このように修正された画像データを2階調の明度を有する画像データに変換し、この2階調の画像データにさらに実レチクルの透過光イメージに近似した複数階調の明度を有する光分布シミュレーションをして基準画像データを形成することもできる。

Claim (excerpt)：

設計データによって形成される画像データに、実レチクルの透過光イメージに近似した複数階調の明度を有する光分布シミュレーションを行うことによって基準画像データを形成し、該基準画像データと、該実レチクルの透過光イメージによって形成した画像データを比較することを特徴とする露光用レチクルのパターン検査方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭55-077731
  
• 特開昭57-192932
  
• 特開昭60-263930
  
• 特開昭59-123827