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J-GLOBAL ID：200903080932630787

レジスト除去方法

Inventor： 田中 明 ,  坂本 圭 ,  横内 貴志男 ,  長沼 靖男
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社 ,  富士通株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998253226
Publication number (International publication number)：2000066417
Application date： Aug. 24, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】 感光性ポリイミド樹脂組成物を用いて形成されたレジストパターンが存在する物品表面から、粘着テープを用いて、不要となったレジストパターンを除去する方法、及びパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 感光性樹脂組成物を用いて形成されたレジストパターンが存在する物品表面からレジストパターンを除去する方法において、感光性樹脂組成物として、テトラゾール類を含有する感光性ポリイミド樹脂組成物を用い、かつ、レジストパターンが存在する物品上に粘着テープを貼り付け、次いで、粘着テープをレジストパターンと共に物品表面から剥離することを特徴とするレジスト除去方法、及びパターン形成方法。

Claim (excerpt)：

感光性樹脂組成物を用いて形成されたレジストパターンが存在する物品表面からレジストパターンを除去する方法において、(1)感光性樹脂組成物として、テトラゾール類を含有する感光性ポリイミド樹脂組成物を用い、かつ、(2)レジストパターンが存在する物品上に粘着テープを貼り付け、次いで、粘着テープをレジストパターンと共に物品表面から剥離することを特徴とするレジスト除去方法。

IPC (2)：

G03F 7/42 ,  G03F 7/037 501

FI (2)：

G03F 7/42 ,  G03F 7/037 501

F-Term (19)：

2H025AA00 ,  2H025AA16 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC31 ,  2H025BC51 ,  2H025BC69 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025DA18 ,  2H025FA39 ,  2H025FA47 ,  2H096BA06 ,  2H096BA20 ,  2H096HA11 ,  2H096LA06