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J-GLOBAL ID：200903080969958006

X線マスクブランク及びX線マスク並びにパターン転写方法

Inventor： 笑喜 勉 ,  河原 孝光
Applicant, Patent owner： ホーヤ株式会社
Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996257500
Publication number (International publication number)：1998083951
Application date： Sep. 06, 1996
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】 50mm角の大きなウインドウサイズにおいても位置歪みが極めて小さく、極めて高い位置精度を有するX線マスクを製造できるX線マスクブランクを提供する。【解決手段】 基板11上に、X線透過膜12を有し、該X線透過膜12上にX線吸収体膜13を有するX線マスクブランクであって、前記X線透過膜12のヤング率と膜厚との積を6×108〜3×109dyn/cmとする。

Claim (excerpt)：

基板上にX線透過膜を有し、該X線透過膜上にX線吸収体膜を有するX線マスクブランクであって、前記X線透過膜のヤング率と膜厚との積が、6×108〜3×109dyn/cmであることを特徴とするX線マスクブランク。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/3065

FI (4)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/302 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-174509
  
• 特開平2-281726
  
• 特開平1-112728