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J-GLOBAL ID：200903080971953640

テクスチャ加工装置

Inventor： 和田 憲也 ,  市川 久賀 ,  木下 和人 ,  杉崎 真二
Applicant, Patent owner： 日立電子エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 影井 俊次
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997237849
Publication number (International publication number)：1999058044
Application date： Aug. 20, 1997
Publication date： Mar. 02, 1999
Summary：

【要約】【目的】 ガラス製のディスクにレーザ光を用いたテクスチャ加工を行う際に、レーザ光源からのレーザビームのパワーを調光手段で所望に制御させて、ディスク表面に形成されるバンプ形状を所望に調整できるようにする。【構成】 レーザ光源1からのレーザビームの光路に、前後の両端面に入射口10a,出射口10bを形成したハウジング10内に透光板を設けた調光手段5が設けられ、それぞれ2枚の透光板11a,11bと、透光板11c,11dとが組になって前後に配置され、それぞれ傾動軸12a,12bにより同期して反対方向に同じ角度だけ傾動可能となっている。入射口10aから入射された光は、これら4枚の透光板11a〜11dを透過する間に一部が反射し、透過光のみが出射口10bから出射される。透光板の角度を変えることにより、反射率を制御して透過光量を変化させることができる。

Claim (excerpt)：

ディスクを回転駆動する間に、レーザビームパルスを半径方向に相対移動させながら照射することにより、このディスク表面に所定の幅にわたってテクスチャ加工を行うために、レーザ光源と、このレーザ光源から前記ディスクの表面にレーザパルスを照射するレーザパルス照射用光学系とを備えたものにおいて、前記レーザパルス照射用光学系は、1又は複数の透光板を前後に一対設けてなり、レーザビームの光量を調整するために、これら各対の透光板を相互に反対方向に傾斜可能とした調光手段と、この調光手段で調光したレーザビームを前記ディスクの表面に集光させるための対物光学系とを備える構成としたことを特徴とするテクスチャ加工装置。

IPC (3)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G11B 5/84

FI (4)：

B23K 26/00 E ,  B23K 26/00 H ,  B23K 26/06 Z ,  G11B 5/84 A