Pat

J-GLOBAL ID：200903080991395236

感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法

Inventor： 加藤 幸治 ,  粕谷 圭 ,  橋本 通晰
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991273944
Publication number (International publication number)：1993113662
Application date： Oct. 22, 1991
Publication date： May. 07, 1993
Summary：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂およびキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物において、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂の低分子量成分が除去されており、かつ、下記の構造式で表わされるフェノール類環状化合物を含有する感光性樹脂組成物およびこの塗膜を露光、現像するレジスト像の製造法。【化1】(R1は水素、アルキル基またはアルコキシ基を表わし、R2は水素、アルキル基、アルコキシ基またはフェニル基を表わし、R1とR2とは同一であってもよく、nは4〜8の整数を表わす)【効果】 本発明の感光性樹脂組成物は、解像度、感度および耐熱性に優れ、高集積回路を作製するためのポジ型レジストに好適である。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂およびキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物において、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂のポリスチレン換算分子量2000以下の低分子量成分が30〜100重量%除去されており、かつ、下記構造式(I)で表わされるフェノール類環状化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。【化1】(R1は、水素、アルキル基またはアルコキシ基を表わし、R2は、水素、アルキル基、アルコキシ基またはフェニル基を表わし、R1とR2とは同一であってもよく、nは、4〜8の整数を表わす。)

IPC (2)：

G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027