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J-GLOBAL ID：200903081000458630

シリコン構造体、転写マスク及びそれらの製造方法

Inventor： 佐藤 秀寿 ,  中山 義則 ,  鏡味 照行 ,  田辺 光男 ,  矢板 栄 ,  片根 二朗
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994078640
Publication number (International publication number)：1995288223
Application date： Apr. 18, 1994
Publication date： Oct. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】容易に取扱いでき、構造的に強固なシリコン構造体を提供すること。【構成】シリコン基板の外周部が厚さ方向で異なる2つの外周部よりなり、厚さの厚い部分の外周部は、表面5側の厚さの薄い部分の外周部より外側に配置されているシリコン構造体1。裏面側の厚さの厚い部分の角部13も表面5側の角部14より外側に配置されている。

Claim (excerpt)：

シリコン基板の外周部が厚さ方向で異なる2つの外周部よりなり、厚さの厚い部分の外周部は、厚さの薄い部分の外周部より外側に配置されたことを特徴とするシリコン構造体。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/00 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04