ポジ型レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001202298
Publication number (International publication number)：2002333715
Application date： Jul. 03, 2001
Publication date： Nov. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】 160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ塗布性、現像欠陥を満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する基を有するフッ素基含有樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)Si系及び/又はフッ素系界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する基を有するフッ素基含有樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)Si系及び/又はフッ素系界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 504 , H01L 21/30 502 R

F-Term (19)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CC04 , 2H025FA10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-106857 Applicant：東レ株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-250050 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-144437 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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