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J-GLOBAL ID：200903081039925473

テトラフェノール系化合物、その製法および用途

Inventor： 市川 幸司 ,  尾崎 晴喜 ,  富岡 淳
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995048219
Publication number (International publication number)：1996245461
Application date： Mar. 08, 1995
Publication date： Sep. 24, 1996
Summary：

【要約】【目的】 レジストなどの感光剤またはその前駆体として有用なフェノール系化合物を提供し、その感光剤を用いてレジスト性能の向上を図る。【構成】 式(I)で示される化合物。R1 〜R4 は各々水素または1,2-ナフトキノンジアジド-4-もしくは-5-スルホニルを表す。このうち、R1 〜R4 がすべて水素である化合物は、4,4′-メチレンビス(2-ヒドロキシメチル-3,6-ジメチルフェノール)とパラクレゾールを反応させることにより製造でき、これを1,2-ナフトキノンジアジド-4-または-5-スルホニルハライドと反応させることにより、R1〜R4 の少なくとも一つが1,2-ナフトキノンジアジドスルホニルとなった化合物Aを製造できる。化合物Aは、アルカリ可溶性樹脂と混合して感光性樹脂組成物となる。【効果】 化合物Aを含む感光性樹脂組成物は、レジスト諸性能のバランスがとれたものとなる。

Claim (excerpt)：

式(I)(式中、R1 、R2 、R3 およびR4 は互いに独立に、水素または1,2-ナフトキノンジアジド-4-もしくは-5-スルホニルを表す)で示されるテトラフェノール系化合物。

IPC (5)：

C07C 39/15 ,  C07C 37/11 ,  C07C303/28 ,  C07C309/76 ,  G03F 7/022

FI (5)：

C07C 39/15 ,  C07C 37/11 ,  C07C303/28 ,  C07C309/76 ,  G03F 7/022