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J-GLOBAL ID：200903081042189338
ポジ型フォトレジスト組成物
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994042271
Publication number (International publication number)：1995248619
Application date： Mar. 14, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：
【要約】【目的】従来のレジスト特性を低下させることなく、時間経過に伴う異物の発生のない保存安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を得ること。【構成】アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、酸性化合物をフォトレジスト組成物に対して0.01〜1重量%含有するポジ型フォトレジスト。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、酸性化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/022
, G03F 7/004 502
, H01L 21/027
