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J-GLOBAL ID：200903081135523874

粒度が大きい金属膜及びその被着方法

Inventor： デビッド・ジョセフ・ハガーストン ,  キャサリン・デービス・インガーソル ,  アンソニー・ジョセフ・コネクニ ,  ペイ-イン・リー ,  カマレッシュ・カマー・スリバスタバ
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 合田 潔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993138576
Publication number (International publication number)：1994088220
Application date： Jun. 10, 1993
Publication date： Mar. 29, 1994
Summary：

【要約】【目的】 結晶学上の粒度が大きい構造を低温で被着された膜に与える。【構成】 温度範囲50°C乃至250°Cで、平均結晶粒度が1.0mmにほぼ等しいか、それより粒度が大きい構造、及び好適には、粒子構造内に好適結晶方位を有するターゲットからスパッタリングすることによって、粒度が大きい構造の金属膜、特にアルミニウムまたはアルミニウム合金が被着される。スパッタリング・プロセスは、好適には、回転磁界を伴うスパッタリング・ターゲット120にプラズマを向けることによる、面積が大きいスパッタリング・ターゲット120の全面に及ぶスパッタリングを含む。【効果】 被着された状態で粒度が大きい膜を温度を下げて形成することにより、被着時の高温や、金属膜被着後のアニール処理などの熱処理が不要になる。

Claim (excerpt)：

粒子構造の平均結晶粒度が1.0mmにほぼ等しいか、それより大きく、上記粒子構造の結晶方位が主に<100>、<111>、<110>、及び<311>の少なくとも1つになっている、スパッタリング・ターゲット。

IPC (4)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/285 301 ,  H01L 21/363 ,  H01L 21/3205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-002369
  
• 特開昭60-224775