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J-GLOBAL ID:200903081160130771

ジルコニア薄膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保田 耕平 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994163788
Publication number (International publication number):1996027579
Application date: Jul. 15, 1994
Publication date: Jan. 30, 1996
Summary:
【要約】【構成】 一般式【化1】〔M及びM′は、それぞれ独立して水酸基、R又はOR(Rはヒドロカルビル基)、あるいは配位子、nは2〜5〕で表わされる鎖状構造を主とするポリジルコノキサンと、イットリウム、ガドリニウム又はイッテルビウムを含有する金属含有有機化合物と有機溶媒とから成る塗布液を調製し、この塗布液を多孔質支持体上に塗布し、乾燥したのち、水蒸気による加湿処理を施すか、あるいはこの塗布液を多孔質支持体上に塗布したのち、熱分解処理するかし、所望によりこの操作を繰り返して固化膜を形成させ、次いで焼成してジルコニア薄膜を製造する。【効果】 繰り返し工程を少なくでき、クラックのないジルコニア薄膜を簡単に効率よく工業的に製造しうる。得られたジルコニア薄膜を有する支持体や電極付き支持体は、さらに所要の電極を設けると、固体電解質用素材として好適。
Claim (excerpt):
(A)一般式【化1】〔式中のM及びM′は、それぞれ独立して水酸基、R又はOR(ここでRはヒドロカルビル基である)であるか、配位子であり、nは2ないし5である〕で表わされる鎖状構造を主とするポリジルコノキサンと、(B)イットリウム、ガドリニウム及びイッテルビウムの中から選ばれた少なくとも1種の金属を含有する金属含有有機化合物と有機溶媒とから成る塗布液を調製し、この塗布液を多孔質支持体上に塗布し、乾燥したのち、水蒸気による加湿処理を施し、所望によりこの操作を繰り返して固化膜を形成させ、次いで焼成することを特徴とするジルコニア薄膜の製造方法。
IPC (3):
C23C 18/08 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10

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