解像度を高めたルミネセンス顕微鏡検査

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (4)：恩田博宣 , 恩田誠 , 本田淳 , 池上美穂
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008521906
Publication number (International publication number)：2009503442
Application date： Jul. 21, 2006
Publication date： Jan. 29, 2009
Summary：

ルミネセンス顕微鏡検査方法が記載され、この方法において、特定のルミネセンス放射(F)を放出させるための励起用放射(A)によって試料(24)を励起し、その際、ルミネセンスを発する試料(24)は、励起用放射出力を上昇させることにより、励起用放射出力の閾値(19)にあたる最大値(18)まで励起性が上昇した第1のルミネセンス状態(5)から、試料(24)の励起性が第1の状態(5)比べて低減された第2のルミネセンス状態(6)に移行可能であり、その際、試料(24)は、閾値(19)より高い励起用放射出力を照射することによって第2の状態(6)に移行可能であり、この試料(24)は、少なくとも1つの閾値(19)より高い出力極大を有する励起用放射分布で、励起用放射(A)の照射が行われることによって、ある部分領域では第1の状態(5)に移され、隣接する部分領域では第2の状態(6)に移され、ルミネッセンスを発する試料(24)の画像は、第1の状態(5)にある試料領域および第2の状態(6)にある試料領域を含んでおり、それにより、画像が、励起用放射分布より高い空間解像度を有するようになる。さらに走査型レーザ顕微鏡が提供され、この顕微鏡は、照明用放射線源(105)から放出された照明用放射線経路(B)内の照明用放射を試料(103)に向けるビーム・スプリッタ(113)を備えており、ビーム・スプリッタ(113)は、試料(103)で鏡面反射された照明用放射を検出器機構(104)へは通過させず、そのために照明用放射線経路(B)の瞳内に配置されており、かつビーム・スプリッタ面(122)上の、光軸(OA)の突破点(125)を中心とする円上にある少なくとも3つの点(123a〜d)で照明用放射のためにミラー・コーティングされたビーム・スプリッタ面(122)を有することによって、部分的にミラー・コーティングされており、これにより、試料(113)一面に周期的に分布する照明スポット(126)の形の干渉パターン(128)が試料(103)内に生じる。

Claim (excerpt)：

特定のルミネセンス放射(F)を放出させるための励起用放射(A)を照射することによって試料(P、24)を励起し、ルミネセンスを発する該試料(P、24)の画像を取得する、解像度を高めたルミネセンス顕微鏡検査方法であって、ルミネセンスを発する該試料(P、24)は、励起用放射出力を上昇させることにより、該特定のルミネセンス放射(F)を放出させるための励起性が、励起用放射出力の閾値(19)にあたる最大値(18)まで上昇した第1のルミネセンス状態(5)から、該試料(P、24)の、該特定のルミネセンス放射(F)を放出するための励起性が該第1の状態(5)に比べて低減された第2のルミネセンス状態(6)に移行可能であり、その際、該試料(P、24)は、該閾値(19)より高い励起用放射出力を照射することによって該第2の状態(6)に移行可能であり、少なくとも1つの該閾値(19)より高い出力極大および少なくとも1つの該閾値より低い局所的な出力極小(45)を有する励起用放射分布で、励起用放射(A)の照射が行われることによって、該試料(P、24)は、部分領域(B1)では該第1の状態(5)に移され、隣接する部分領域(B2)では該第2の状態(6)に移され、ルミネセンスを発する該試料(P、24)の該画像は、該第1の状態(5)にある試料領域(B1)および該第2の状態(6)にある試料領域(B2)を含んでおり、その際、ルミネセンスを発する該試料(P、24)の該画像には、主として該第1の状態(5)にある試料領域(B1)が寄与し、それにより該画像が、該励起用放射分布より高い空間解像度を有する、方法。

IPC (3)：

G01N 21/64 , G02B 21/06 , G02B 21/18

FI (4)：

G01N21/64 E , G01N21/64 F , G02B21/06 , G02B21/18

F-Term (25)：

2G043BA16 , 2G043EA01 , 2G043FA01 , 2G043FA02 , 2G043FA03 , 2G043FA06 , 2G043GA01 , 2G043GB01 , 2G043HA01 , 2G043HA09 , 2G043JA02 , 2G043KA02 , 2G043KA05 , 2G043KA09 , 2G043LA03 , 2H052AA07 , 2H052AA08 , 2H052AA09 , 2H052AB24 , 2H052AC15 , 2H052AC17 , 2H052AC30 , 2H052AC34 , 2H052AF02 , 2H052AF25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

超解像顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-259889 Applicant：科学技術振興事業団, オリンパス光学工業株式会社, 株式会社日本ローパー
蛍光顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-033851 Applicant：株式会社分子バイオホトニクス研究所
顕微鏡システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-097924 Applicant：科学技術振興事業団, オリンパス光学工業株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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