Pat

J-GLOBAL ID：200903081199564973

磁気ディスク基板用ガラス組成物及び磁気ディスク基板

Inventor： 田口 智之 ,  河合 秀樹 ,  小原 融 ,  栗山 育夫 ,  若林 肇
Applicant, Patent owner： 山村硝子株式会社
Agent (1)： 内山 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996357203
Publication number (International publication number)：1998226532
Application date： Dec. 26, 1996
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】成形が容易で、熱処理による結晶化後、容易に研磨加工ができ、あるいは成形、研磨後、イオン交換により化学強化でき、優れた化学的耐久性、機械的強度、耐熱性、表面平滑性、表面平坦性を有し、磁気膜特性の劣化の少ない磁気ディスク基板用ガラス組成物及び磁気ディスク基板を提供する。【解決手段】SiO2:66〜80重量%、Al2O3:5〜15重量%、Li2O:3〜8.5重量%、Na2O:0〜3重量%、K2O:0〜3重量%、TiO2:0.5〜8重量%、ZrO2:3.5〜8重量%、P2O5:0.5〜3重量%、Sb2O3:0〜2重量%、As2O3:0〜2重量%の組成を有し、理論的光学的塩基性度が0.548以下である磁気ディスク基板用ガラス組成物、並びに、該組成物を成形、研磨後、イオン交換し、強化した磁気ディスク基板、及び、該組成物を成形、熱処理、研磨して作製された主結晶相がLi2O・2SiO2及び/又はスポジュメンである磁気ディスク基板。

Claim (excerpt)：

酸化物として、SiO2 :66〜80重量%Al2O3 :5〜15重量%Li2O :3〜8.5重量%Na2O :0〜3重量%K2O :0〜3重量%但し、Li2O+Na2O+K2O:3〜10重量%TiO2 :0.5〜8重量%ZrO2 :3.5〜8重量%P2O5 :0.5〜3重量%Sb2O3 :0〜2重量%As2O3 :0〜2重量%の組成を有し、理論的光学的塩基性度が0.548以下であることを特徴とする磁気ディスク基板用ガラス組成物。

IPC (5)：

C03C 3/097 ,  C03C 10/12 ,  C03C 21/00 101 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/84

FI (5)：

C03C 3/097 ,  C03C 10/12 ,  C03C 21/00 101 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/84 Z