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J-GLOBAL ID：200903081213665389

光学デバイス用材料・光学デバイス・光学デバイス製造方法

Inventor： 梅木 和博 ,  佐藤 昌仙
Applicant, Patent owner： リコー光学株式会社
Agent (1)： 樺山 亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994016808
Publication number (International publication number)：1995218702
Application date： Feb. 10, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】曲率の大小に拘らず、所望の凸曲面を持った光学デバイスを製造できる、光学デバイスの製造方法を実現する。【構成】光学デバイス用材料の、感光性材料の薄層16に、露光により光学デバイスの端面形状をパターニングし、中間層14をエッチングして、上記端面形状を金属薄膜層14に写し、端面形状を写された金属薄膜層14をマスクとしてドライエッチングを行い、端面形状に正確に従う、熱可塑性材料層12の3次元パターンを得、熱可塑性材料層12の3次元パターンを加熱し、熱変形により、1以上の、所望の凸曲面形状を創成した後、ドライエッチングを行って、1以上の凸曲面形状を、デバイス材料10に彫り写す。

Claim (excerpt)：

デバイス材料の1以上の平坦な表面に、所望の厚さの熱可塑性材料層と、中間層と、感光性材料の薄層とを、上記表面側から上記順序に積層して構成される、光学デバイス用材料。

IPC (4)：

G02B 3/00 ,  B29C 69/00 ,  B29D 11/00 ,  B29L 11:00