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J-GLOBAL ID：200903081254327943
荷電ビーム描画装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
内原 晋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991285314
Publication number (International publication number)：1993121032
Application date： Oct. 31, 1991
Publication date： May. 18, 1993
Summary：
【要約】【目的】微細加工用荷電ビーム描画装置の、ビーム偏向歪に起因するパターンできあがり寸法のバラツキを軽減させる。【構成】照射時間変調部11を有し、ビーム偏向位置に従ってビーム照射量を調整することにより、できあがり寸法のバラツキを補正する。
Claim (excerpt)：
ビーム照射量を、ビーム照射時間によって制御し、ビーム照射位置をビーム偏向器により制御する荷電ビーム描画装置で、ビーム偏向位置に従ってビーム照射時間を調整する手段を有することを特徴とする荷電ビーム描画装置。
IPC (3)：
H01J 37/305
, H01J 37/147
, H01L 21/027
