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J-GLOBAL ID：200903081272471415

化学物質の残存率の予測方法

Inventor： 上田 洋一
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999166736
Publication number (International publication number)：2000074809
Application date： Jun. 14, 1999
Publication date： Mar. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】化学物質を所望の条件下に一定期間置いた場合の該物質の残存率を精度よく予測する方法を提供すること。【解決手段】(a)熱測定装置を用いて試料を保温し該試料の温度を測定するステップと、(b)保温された試料中の目的の化学物質の残存率を定量するステップと、(c)前記残存率ならびに前記試料の保温時間および温度に基づき反応速度論的解析を行い、所望の条件下における試料中の目的の化学物質の残存率を求めるステップを含む化学物質の残存率の予測方法。

Claim (excerpt)：

(a)熱測定装置を用いて試料を保温し該試料の温度を測定するステップと、(b)保温された試料中の目的の化学物質の残存率を定量するステップと、(c)前記残存率ならびに前記試料の保温時間および温度に基づき反応速度論的解析を行い、所望の条件下における試料中の目的の化学物質の残存率を求めるステップを含む化学物質の残存率の予測方法。

IPC (3)：

G01N 5/04 ,  G01N 25/02 ,  G01N 25/20

FI (3)：

G01N 5/04 A ,  G01N 25/02 Z ,  G01N 25/20 A