Pat

J-GLOBAL ID：200903081286923637

多結晶半導体膜の製造方法

Inventor： 佐々木 秀幸 ,  富田 充裕 ,  鈴木 功 ,  合瀬 路博 ,  竹野 史郎 ,  三橋 浩 ,  松浦 由紀 ,  川久 慶人
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 三好 秀和 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997061072
Publication number (International publication number)：1998256152
Application date： Mar. 14, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 レーザーアニールで多結晶半導体膜を製造する場合に、非晶質又は多結晶の半導体膜表面に数μm周期の熱密度分布を実現し、その熱密度分布により界面における残留核を数μm周期で制御し、数μmオーダーの大結晶粒からなる高特性の多結晶半導体膜を製造することである。【解決手段】 2つのレーザー光を前記半導体膜表面の所定位置に所定の入射角度で照射して干渉させることにより定在波を形成し、前記所定位置に該定在波と同周期の熱密度分布を発生させる。

Claim (excerpt)：

予め与えられた非晶質半導体膜又は第1の多結晶半導体膜を一旦融解し、その後再び結晶化することにより結晶粒度の異なる第2の多結晶半導体膜を形成する多結晶半導体膜の製造方法において、2つのレーザー光を、前記非晶質半導体膜又は第1の多結晶半導体膜表面の所定位置に定在波が形成するような入射角度で照射し、前記所定位置に該定在波と同周期の熱密度分布を発生させ前記融解を行うことを特徴とする多結晶半導体膜の製造方法。

IPC (2)：

H01L 21/20 ,  H01L 21/268

FI (2)：

H01L 21/20 ,  H01L 21/268 F

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開昭62-003089
  

Cited by examiner (1)

• 特開昭62-003089