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J-GLOBAL ID：200903081292375870

洗浄処理装置

Inventor： 古山 尚宏
Applicant, Patent owner： ニチデン機械株式会社
Agent (1)： 江原 省吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991209121
Publication number (International publication number)：1993047727
Application date： Aug. 21, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ウェーハ部材を一枚一枚出入れする搬送で枚葉処理できるようにキャリア内にほぼ水平状態で収納して効率よく洗浄処理できる洗浄処理装置を提供することにある。【構成】 多数の半導体ウェーハ(1)を定ピッチで整列収納するキャリア(2)を、半導体ウェーハ(1)が水平方向から所定角度傾斜した状態で保持させて位置決め載置したキャリアベース(20)と、キャリアベース(20)を上下動させるエレベータ機構(21)と、エレベータ機構(21)によりキャリアベース(20)上のキャリア(2)が出入れされる洗浄槽(19)とを具備する。尚、キャリアベース(20)上で立てて位置決め載置されたキャリア(2)内の半導体ウェーハ(1)は、そのキャリア(2)の開口部から底部に向けて水平方向から7〜10°の範囲内で下方傾斜した状態で保持されるようにすることが好ましい。

Claim (excerpt)：

多数のウェーハ部材を定ピッチで整列収納するキャリアを、ウェーハ部材が水平方向から所定角度傾斜した状態で保持させて位置決め載置したキャリアベースと、キャリアベースを上下動させるエレベータ機構と、エレベータ機構によりキャリアベース上のキャリアが出入れされる洗浄槽とを具備したことを特徴とする洗浄処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68