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J-GLOBAL ID：200903081308509368

プラズマCVDを使用した有機EL保護膜

Inventor： 松原 和夫
Applicant, Patent owner： 株式会社 セルバック
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001380053
Publication number (International publication number)：2003187959
Application date： Dec. 13, 2001
Publication date： Jul. 04, 2003
Summary：

【要約】【課題】有機ELの保護膜に高分子ポリマーとシリコンオキシナイトライド及びシリコンナイトライドを制膜する事により水分及び酸素の外部からの浸入を防ぐ。 【解決手段】減圧された真空容器内に有機EL基板の陰極電極9の上面に最初に高分子ポリマー10をプラズマCVDで制膜後、その上のシリコンオキシナイトライド及びシリコンナイトライド11を制膜する

Claim (excerpt)：

減圧された真空容器の中で有機ELの基板に高分子ポリマー、シリコンオキシナイトライド(SiON)をプラズマCVDで、交互に制膜することにより有機ELの基板に保護膜を形成する。

IPC (2)：

H05B 33/04 ,  H05B 33/14

FI (2)：

H05B 33/04 ,  H05B 33/14 A

F-Term (4)：

3K007AB12 ,  3K007AB13 ,  3K007DB03 ,  3K007FA02