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J-GLOBAL ID：200903081321641526

荷電粒子ビーム装置およびその洗浄方法

Inventor： 小笠原 宗博 ,  大歳 研司 ,  吉武 秀介 ,  滝川 忠宏
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996116386
Publication number (International publication number)：1997306803
Application date： May. 10, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 荷電粒子ビームを用いて高精度のパタ-ンを描画することを可能とする描画装置、およびその洗浄方法を提供することを目的とする。【解決手段】 電子光学鏡筒と、この電子光学鏡筒内を通過する荷電粒子ビームを偏向させる偏向手段と、前記電子光学鏡筒内の少なくとも一部をラジカルまたはプラズマを用いて洗浄する洗浄手段と、前記偏向手段により偏向した荷電粒子ビームの所定測定値の変動を検出する検出手段と、前記荷電粒子ビームの所定測定値の変動の検出値が所定の範囲を越えるときに、前記洗浄手段を動作させる手段とを具備することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

電子光学鏡筒と、この電子光学鏡筒内を通過する荷電粒子ビームを偏向させる偏向手段と、前記電子光学鏡筒内の少なくとも一部をラジカルまたはプラズマを用いて洗浄する洗浄手段と、前記偏向手段により偏向した荷電粒子ビームの所定測定値の変動を検出する検出手段と、前記荷電粒子ビームの所定測定値の変動の検出値が所定の範囲を越えるときに、前記洗浄手段を動作させる手段とを具備することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/304 341

FI (5)：

H01L 21/30 541 J ,  H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 Z ,  H01L 21/302 Z