Pat

J-GLOBAL ID：200903081346545084

腐食環境モニタリング装置

Inventor： 南谷 林太郎 ,  保川 彰夫 ,  笠井 憲一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996249744
Publication number (International publication number)：1998090165
Application date： Sep. 20, 1996
Publication date： Apr. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】X線マイクロアナライザを用いるため、その場で測定ができない上にコストが高い。さらに、環境測定の対象機器で多数箇所で測定する場合、分析に時間がかかる上に、コストが高い。また、対象機器の測定箇所の真近で測定するにあたり、装置内に設置する場合、従来のモニタリング装置ではサイズが大きく設置場所に制限がある。【解決手段】透明な基板上に膜厚を連続的または段階的に変化させて形成した金属薄膜からなる腐食モニタリング装置1で、被測定環境中に測定箇所の直近に所定期間に渡り放置した後に、透明基板2を通して金属薄膜3を観察し、金属と腐食生成物との色が違うことを利用して、金属薄膜3上に生成した腐食生成物の厚さを測定する。

Claim (excerpt)：

透明基板上に膜厚を段階的または連続的に変化させて形成した金属薄膜からなる腐食環境モニタリング装置において、被測定環境中に測定箇所の直近に所定期間に渡り放置した後に、前記透明基板を通して前記金属薄膜を観察し、金属と腐食生成物との色が違うことを利用して、前記金属薄膜上に生成した前記腐食生成物の厚さを求めることを特徴とする腐食環境モニタリング装置。