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J-GLOBAL ID：200903081381234520

排ガス浄化方法およびその装置

Inventor： 山崎 均
Applicant, Patent owner： バブコック日立株式会社
Agent (1)： 中村 純之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995012256
Publication number (International publication number)：1996196859
Application date： Jan. 30, 1995
Publication date： Aug. 06, 1996
Summary：

【要約】【目的】排ガス中の臭気成分または有害成分を吸着する排ガス浄化方法においてコンパクトで運用性に優れた安価な排ガス浄化方法および装置を提供する。【構成】排ガス中の臭気成分または有害成分を吸着する吸着層の下部に、吸着層を加熱するヒータと、吸着層の上部に吸着成分を分解もしくは燃焼する触媒層を少なくとも備えた排ガス浄化装置を用いて排ガスを浄化する方法であって、排ガス中の臭気成分または有害成分を吸着層により吸着して排ガスを浄化した後、吸着層を加熱して自然対流循環により吸着成分を分離し、これを触媒層により分解または燃焼させて無害成分とする吸着層の再生を行う方法と装置。【効果】簡便で小型の装置構成で、排ガス浄化と吸着剤の再生を連続的または間歇的に効率良く行うことができ、吸着剤の再生または交換する手間を低減でき、吸着剤の使用量を排ガス処理量に対して少なく設定でき維持費が安価となる。

Claim (excerpt)：

排ガス中の臭気成分または有害成分を吸着する吸着層の下部に、該吸着層を加熱するヒータと、上記吸着層の上部に吸着成分を分解もしくは燃焼する触媒層を少なくとも備えた排ガス浄化装置を用いて排ガスを浄化する方法において、排ガス中の臭気成分または有害成分を吸着層により吸着して排ガスを浄化した後、上記吸着層を加熱して自然対流循環により吸着成分を分離し、かつ分離した吸着成分を触媒層により分解または燃焼して無害成分とする吸着層の再生を行うことを特徴とする排ガス浄化方法。

IPC (6)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 23/40

FI (3)：

B01D 53/34 116 B ,  B01D 53/34 ZAB A ,  B01D 53/36 ZAB H