Pat
J-GLOBAL ID：200903081406458747

画像記録材料

Inventor：
藤牧 一広

About 藤牧 一広

, 
曽呂利 忠弘

About 曽呂利 忠弘


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000354175
Publication number (International publication number)：2002156757
Application date： Nov. 21, 2000
Publication date： May. 31, 2002
Summary：
【要約】【課題】 記録時のレーザーによるアブレーションが抑制され、形成された画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を形成しうるネガ型画像記録材料を提供する。【解決手段】 (A)側鎖に下記一般式(1)又は一般式(2)で表される基と、下記一般式(3)又は一般式(4)で表される基と、をそれぞれ少なくとも1つ有する水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、(B)光熱変換剤、及び、(C)(B)光熱変換剤が吸収する事できる波長の光の露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物を含有する。式中、Rl〜R6は、1価の有機基を、A、Dは酸素原子、硫黄原子などを表し、一般式(3)はNH-Y-、一般式(4)は-Z-NH-Rであり、Y、Zは2価の有機基を表し、少なくとも一方は、-CO-または-SO2-を表す。【化1】
Claim (excerpt)：
(A)側鎖に下記一般式(1)又は一般式(2)で表される基と、下記一般式(3)又は一般式(4)で表される基と、をそれぞれ少なくとも1つ有する水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、(B)光熱変換剤、及び、(C)(B)光熱変換剤が吸収する事できる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物を含有し、ヒートモード露光により画像記録可能であることを特徴とするヒートモード対応ネガ型画像記録材料。【化1】式(1)及び(2)中、Rl〜R6は、それぞれ独立に、1価の有機基を表す。Aは酸素原子、硫黄原子、または-N-R7を表す。Dは酸素原子、硫黄原子、-N-R7またはフェニレン基を表す。ここでR7は、水素原子又は1価の有機基を表す。-X-NH-Y- (3)-Z-NH-R (4)式(3)及び(4)中、X、Yは2価の有機基を表し、少なくとも一方は、-CO-または-SO2-を表す。Zは、-CO-または-SO2-を表し、Rは水素原子または1価の有機基を表す。
IPC (4)：
G03F 7/033 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/027 502
FI (4)：
G03F 7/033 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/027 502
F-Term (37)：
2H025AA12 ,  2H025AA13 ,  2H025AB03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC19 ,  2H025BC42 ,  2H025BC53 ,  2H025CA48 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB42 ,  2H025CC11 ,  2H025FA17 ,  2H096AA06 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096EA04 ,  2H096EA23 ,  2H096GA08 ,  2H114AA04 ,  2H114AA23 ,  2H114AA24 ,  2H114BA01 ,  2H114BA06 ,  2H114BA10 ,  2H114DA03 ,  2H114DA21 ,  2H114DA34 ,  2H114DA41 ,  2H114DA52 ,  2H114DA53 ,  2H114DA55 ,  2H114EA01 ,  2H114EA03 ,  2H114EA08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 画像記録材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-249569   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 画像記録材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-055564   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 光重合性組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-363195   Applicant：富士写真フイルム株式会社

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM