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J-GLOBAL ID：200903081412698040

粒体の微細化処理装置

Inventor： 瀬田 康雄 ,  澤部 茂 ,  辻井 正也
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998133394
Publication number (International publication number)：1999319607
Application date： May. 15, 1998
Publication date： Nov. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】分散処理槽の容量、ベッセルの内径サイズ等に関わらず、ショートパスを抑制して均一に微細化限界まで粉砕し、狭範囲の粒度分布を得る、粒体の微細化処理装置を提供する。【解決手段】円筒形の処理槽の一端に設けられた入口部から処理材料を供給し、該処理槽内において円周方向に回転する回転軸に取り付けられた複数の攪拌ディスクと、前記処理材料中に混在される粉砕メディアにより、前記処理材料を微細に分散し、処理槽の他端に設けられた出口部から吐出させるようにした粒体の微細化処理装置において、回転する攪拌ディスクの最外周と処理槽内壁とのクリアランスが2〜10mmであることを特徴とする粒体の微細化処理装置。

Claim (excerpt)：

円筒形の処理槽の一端に設けられた入口部から処理材料を供給し、該処理槽内において円周方向に回転する回転軸に取り付けられた複数の攪拌ディスクと、前記処理材料中に混在される粉砕メディアにより、前記処理材料を微細に分散し、処理槽の他端に設けられた出口部から吐出させるようにした粒体の微細化処理装置において、回転する攪拌ディスクの最外周と処理槽内壁とのクリアランスが2mmを越え10mm以下であることを特徴とする粒体の微細化処理装置。

IPC (4)：

B02C 17/16 ,  B02C 17/18 ,  B02C 17/20 ,  G02B 5/20 101

FI (4)：

B02C 17/16 B ,  B02C 17/18 Z ,  B02C 17/20 ,  G02B 5/20 101