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J-GLOBAL ID：200903081434546929

荷電粒子ビーム装置における有機ガス分子の除去方法

Inventor： 田村 伸昭
Applicant, Patent owner： 日本電子株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991320058
Publication number (International publication number)：1993135725
Application date： Nov. 07, 1991
Publication date： Jun. 01, 1993
Summary：

【要約】【目的】 試料に電子線照射を行なった時、試料表面に被膜が形成されるのを防ぐ荷電粒子ビーム装置における有機ガス分子の除去方法を提供すること。【構成】 試料観察を行わない時に二次電子検出器7をOFFにし、試料室3をリークして試料ステージ5を引き出し、試料6を試料ステージ5から取り外す。試料ステージ5を元の位置にセットし試料室3を真空ポンプ4により高真空に排気する。電源9を制御してタングステンフィラメント10に電流を流す。すると、フィラメント10から熱電子が放射状に飛び出す。この熱電子のエネルギーは前記電源9及び抵抗11により数〜数十eVに設定される。試料室3の壁面などに吸着している有機ガス分子に熱電子が照射されると、有機ガス分子は重合して試料室壁面に被膜として着く。試料観察のため試料に電子線照射を行なっても試料表面には被膜は形成されず、試料は汚染されない。

Claim (excerpt)：

試料を試料室から退避させ、試料室内に配置された熱電子放出源から放射される熱電子により試料室内の有機ガス分子を被膜化して試料室壁などに付着させるようにした荷電粒子ビーム装置における有機ガス分子の除去方法。

IPC (4)：

H01J 37/20 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/252 ,  H01J 37/28