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J-GLOBAL ID:200903081478566625

光受容部材の形成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山下 穣平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993135112
Publication number (International publication number):1994324505
Application date: May. 14, 1993
Publication date: Nov. 25, 1994
Summary:
【要約】【目的】 電気特性、画像特性、耐久性の優れた光受容部材の形成装置を提供する。【構成】 減圧気相成長法により、円筒状の基体の表面にシリコン原子を母材とする非晶質材料からなる光受容層を形成する光受容部材の形成装置において、前記基体1002を装着する基体ホルダー1000の母材は、熱伝導度の大きな材料(a)1001aと、熱膨張係数および熱伝導度が小さい材料(b)1001bとからなり、少なくとも該基体1002と相対する部分は、前記材料(a)1001aで構成され、該基体ホルダー1000の上部または/及び下部は、材料(b)1001bで構成されていることを特徴とする光受容部材の形成装置。
Claim (excerpt):
減圧気相成長法により、円筒状の基体の表面にシリコン原子を母材とする非晶質材料からなる光受容層を形成する光受容部材の形成装置において、前記基体を装着する基体ホルダーの母材は、熱伝導度の大きな材料(a)と、熱膨張係数および熱伝導度が小さい材料(b)とからなり、少なくとも該基体と相対する部分は、前記材料(a)で構成され、該基体ホルダーの上部または/及び下部は、材料(b)で構成されていることを特徴とする光受容部材の形成装置。
IPC (3):
G03G 5/08 360 ,  G03G 5/08 105 ,  C23C 16/44

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