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J-GLOBAL ID：200903081551338172

荷電粒子線転写装置

Inventor：
中筋 護

About 中筋 護


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993324391
Publication number (International publication number)：1995183191
Application date： Dec. 22, 1993
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：
【要約】【目的】 マスクと試料とを連続移動させても、試料上の正規のパターン転写位置に正確にパターンを転写できる転写装置を提供する。【構成】 マスク4および試料10を互いに同期した速度で連続移動させつつマスク4の特定領域へ荷電粒子線を照射してその領域に形成されたパターンを試料10に転写する荷電粒子線転写装置において、マスク4および試料10の特定方向への移動速度を検出する検出手段17,21と、転写開始時刻における試料10上の正規のパターン転写位置と試料上に導かれるパターンの像との特定方向へのずれ量を検出手段が17,21検出した移動速度に基づいて予測するずれ量予測器18と、ずれ量予測器18の予測結果に基づいて、試料10に実際に転写されるパターンの特定方向の転写位置を補正する転写位置補正器6とを備える。
Claim (excerpt)：
マスクおよび試料を互いに同期した速度で連続移動させつつ前記マスクの特定領域へ荷電粒子線を照射してその領域に形成されたパターンを前記試料に転写する荷電粒子線転写装置において、前記マスクおよび前記試料の特定方向への移動速度を検出する検出手段と、転写開始時刻における前記試料上の正規のパターン転写位置と前記試料上に導かれる前記パターンの像との前記特定方向へのずれ量を前記検出手段が検出した移動速度に基づいて予測するずれ量予測手段と、前記ずれ量予測手段の予測結果に基づいて、前記試料に実際に転写されるパターンの前記特定方向の転写位置を補正する転写位置補正手段と、を備えることを特徴とする荷電粒子線転写装置。
FI (2)：
H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 D
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 特開昭61-283121
  • 荷電粒子線露光方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-209067   Applicant：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
  • 特開昭57-053938
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Cited by examiner (4)
  • 特開昭61-283121
  • 荷電粒子線露光方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-209067   Applicant：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
  • 特開昭57-053938
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