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J-GLOBAL ID：200903081559179073

レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法

Inventor： 野▲崎▼ 耕司 ,  矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  並木 崇久 ,  五十嵐 美和 ,  倉光 庸子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995068056
Publication number (International publication number)：1996262717
Application date： Mar. 27, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 エキシマレーザを使用してドライエッチング耐性にすぐれかつパターンの膨潤のないネガティブレジストパターンを形成可能なレジスト組成物を提供することを目的とする。【構成】 (a) 繰り返し単位:A.自体重合にあずからないけれども架橋剤によって架橋可能である炭素-炭素二重結合を少なくとも1個側鎖に有し、且つ、アクリル酸又はメタクリル酸エステルと共重合可能であるビニルモノマー単位、B.アクリルアミド又はメタクリルアミド単位、C.アクリル酸又はメタクリル酸モノマー単位、及びD.アクリル酸-又はメタクリル酸アダマンチルモノマー単位、からなり、そして2000〜1000000 の重量平均分子量を有している(メタ)アクリレート共重合体、及び (b)結像用放射線を吸収して分解せしめられかつ引き続く加熱により前記共重合体の架橋を惹起可能である架橋剤、を含んでなる。

Claim (excerpt)：

(a)下記の繰り返し単位:A.0%より大でありかつ50%以下の、自体重合にあずからないけれども架橋剤によって架橋可能である炭素-炭素二重結合を少なくとも1個側鎖に有し、且つ、アクリル酸又はメタクリル酸エステルと共重合可能であるビニルモノマー単位、B.0%より大でありかつ70%以下の、アクリルアミド又はメタクリルアミド単位、C.0%より大でありかつ30%以下の、アクリル酸又はメタクリル酸モノマー単位、及びD.0%より大でありかつ70%以下の、アクリル酸-又はメタクリル酸アダマンチルモノマー単位、からなり、そして2000〜1000000の重量平均分子量を有している(メタ)アクリレート共重合体、及び(b)結像用放射線を吸収して分解せしめられかつ引き続く加熱により前記共重合体の架橋を惹起可能である架橋剤、を含んでなることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (12)：

G03F 7/038 505 ,  C08F220/06 MLU ,  C08F220/18 MMD ,  C08F220/56 MNC ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/02 LHR ,  C08L 33/10 LHV ,  C08L 33/26 LJV ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 503 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (14)：

G03F 7/038 505 ,  C08F220/06 MLU ,  C08F220/18 MMD ,  C08F220/56 MNC ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/02 LHR ,  C08L 33/10 LHV ,  C08L 33/26 LJV ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 503 ,  H01L 21/312 D ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 568 ,  H01L 21/30 569 B