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J-GLOBAL ID：200903081559511221

露光用マスク

Inventor： 小島 明 ,  川平 博一 ,  野澤 悟
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991211481
Publication number (International publication number)：1994067405
Application date： Jul. 29, 1991
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】基板面に遮光膜を形成する場合に生ずる反りによるパターンずれの問題を容易に解決した露光用マスクを提供するものである。【構成】基板10面の周辺部に遮光膜2を有する露光用マスク1において、周辺部の遮光膜2をスリット3等を用いて分割したことを特徴とする露光用マスク、またはこの露光用マスクをネガパターンマスクに構成し、ポジパターンマスクとの重ね合わせ精度を高める構成とした露光用マスク。

Claim (excerpt)：

基板面の周辺部に遮光膜を有する露光用マスクにおいて、前記周辺部の遮光膜を分割したことを特徴とする露光用マスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-095554
  
• 特開昭58-091635
  
• 特開平1-173718