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J-GLOBAL ID：200903081561222679

光ディスクの製造方法

Inventor： 三枝 理伸 ,  片山 博之 ,  長浦 歳一 ,  村上 善照 ,  太田 賢司
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 野河 信太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992261856
Publication number (International publication number)：1994111396
Application date： Sep. 30, 1992
Publication date： Apr. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 帯電防止膜の密着性、剥離性が向上した光ディスク。【構成】 透光性のプラスチックス基板の一方の表面に光磁気記録膜と保護膜をこの順で形成し、他の表面で光ビーム照射面側に、任意に透湿防止膜とリンをドーピングさせた酸化スズを導電性フィラーとして添加した合成樹脂からなる帯電膜をこの順で形成する光ディスクの製造方法において、帯電膜を形成する前に、プラスチックス基板の表面または任意に形成された透湿防止膜の上に紫外線を照射することを特徴とする光ディスクの製造方法。

Claim (excerpt)：

透光性のプラスチックス基板の一方の表面に光磁気記録膜と保護膜をこの順で形成し、他の表面で光ビーム照射面側に、任意に透湿防止膜とリンをドーピングさせた酸化スズを導電性フィラーとして添加した合成樹脂からなる帯電膜をこの順で形成する光ディスクの製造方法において、帯電膜を形成する前に、プラスチックス基板の表面または任意に形成された透湿防止膜の上に紫外線を照射することを特徴とする光ディスクの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-212734
  
• 特開平3-073438
  
• 特開平1-271935
  
• 特開昭63-244343