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J-GLOBAL ID：200903081582502469

ペリクル及びペリクル付きフォトマスク

Inventor：
田辺 容由

About 田辺 容由


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996007715
Publication number (International publication number)：1997197652
Application date： Jan. 19, 1996
Publication date： Jul. 31, 1997
Summary：
【要約】【課題】 ペリクルとレチクルで囲まれた空間に存在する空気中の水分及び酸素により生じるレチクル表面の劣化を低減するペリクル付きフォトマスク及びペリクルを提供することである。【解決手段】 ペリクルはペリクル枠1の表面に透光性薄膜2を展着して形成される。ペリクル枠1は気体5を注入あるいは排気するための通気孔6と通気孔6を封止するための栓7を有している。このペリクルをレチクル3の表面及び裏面に装着した後、ペリクル枠1と透光性薄膜2とレチクル3とで囲まれた空間内に気体5を注入する。
Claim (excerpt)：
ペリクル枠の表面に透光性薄膜を展着したペリクルにおいて、前記ペリクル枠は、気体を注入あるいは排気するための少なくとも1つの通気孔と、該通気孔を封止するための栓を有していることを特徴とするペリクル。
IPC (2)：
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 1/14 J ,  H01L 21/30 502 P
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (26)
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