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J-GLOBAL ID:200903081591524270
感光性樹脂用下地材料
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994041022
Publication number (International publication number):1995247401
Application date: Mar. 11, 1994
Publication date: Sep. 26, 1995
Summary:
【要約】【目的】 化学増幅型レジスト等の感光性樹脂用下地材料を提供する。【構成】 ポリグリシジルアクリレート類及び400nm 以下の波長に吸収を有する光吸収剤を含む感光性樹脂用下地材料。【効果】 アルミニウム等の基板と感光性樹脂との間に上記下地材料層を設けると、照射光の基板からの乱反射及び定在波の発生を防ぐので、特にエキシマーレーザーリソグラフィーに有用である。
Claim (excerpt):
ポリグリシジルアクリレート類及び400nm 以下の波長に吸収を有する光吸収剤を含むことを特徴とする感光性樹脂用下地材料。
IPC (8):
C08L 33/14 LHV
, C07C245/08
, C08K 5/23
, C09K 3/00 104
, G03F 7/004 506
, G03F 7/027 502
, G03F 7/11 503
, C07D231/44
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