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J-GLOBAL ID：200903081614717985

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法

Inventor： 羽田 英夫 ,  藤村 悟史 ,  岩下 淳
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 棚井 澄雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001369340
Publication number (International publication number)：2003167347
Application date： Dec. 03, 2001
Publication date： Jun. 13, 2003
Summary：

【要約】【課題】 解像性に優れ、しかも孤立レジストパターンの焦点深度幅の向上、及び近接効果の抑制を可能にした、化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位を主鎖に有し、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを、有機溶剤(C)に溶解してなるポジ型レジスト組成物である。樹脂成分(A)が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a1)、ラクトン含有単環又は多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a2)、水酸基含有多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a3)、及びこれら単位(a1)、単位(a2)、単位(a3)以外の多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a4)を含む共重合体である。

Claim (excerpt)：

(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位を主鎖に有し、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを、有機溶剤(C)に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a1)、ラクトン含有単環又は多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a2)、水酸基含有多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a3)、及びこれら単位(a1)、単位(a2)、単位(a3)以外の多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a4)を含む共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (30)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC12P ,  4J100BC12S ,  4J100BC53Q ,  4J100CA06 ,  4J100JA38