Pat
J-GLOBAL ID：200903081620924879

排水処理装置および排水処理方法

Inventor：
山嵜 和幸

About 山嵜 和幸

, 
坂田 和之

About 坂田 和之


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (2)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005048552
Publication number (International publication number)：2006231184
Application date： Feb. 24, 2005
Publication date： Sep. 07, 2006
Summary：
【課題】 高濃度窒素排水を処理できると共に省エネルギーと廃棄物の減量を実現できる排水処理装置を提供する。 【解決手段】 この排水処理装置は、第1脱窒槽1にリン、カリウム、カルシウム、マグネシウムのうちの少なくとも1つ以上が添加され、かつ、硝化槽3,再曝気槽9が下部の半嫌気部16,18と上部の好気部17,19を有する。そして、第1脱窒槽1と硝化槽3と第2脱窒槽7と再曝気槽9における微生物濃度を10000ppm以上とする。加えて、嫌気性の部分(第1脱窒槽1、第2脱窒槽7)と好気性の部分(硝化槽3の好気部17、再曝気槽9の好気部19)との間に、半嫌気性の部分(硝化槽3の半嫌気部16、再曝気槽9の半嫌気部18)が存在する。したがって、システム全体の循環回数が多くなった場合にも、微生物に対する環境の変化を和らげることができ、高濃度アンモニア排水等の高濃度窒素排水を効率よく処理できる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
窒素系化合物を含有する窒素排水が導入されると共に、リン、カリウム、カルシウム、マグネシウムのうちの少なくとも1つ以上が添加され、かつ、水素供与体が添加される第1脱窒槽と、 下部の半嫌気部と上部の好気部とを有すると共に上記第1脱窒槽からの処理水が上記半嫌気部に導入される硝化槽と、 上記硝化槽からの処理水が導入されると共に水素供与体が添加される第2脱窒槽と、 下部の半嫌気部と上部の好気部とを有すると共に上記第2脱窒槽からの処理水が上記半嫌気部に導入される再曝気槽とを備え、 上記第1脱窒槽と硝化槽と第2脱窒槽と再曝気槽における処理水の微生物濃度を10000ppm以上としたことを特徴とする排水処理装置。
IPC (3)：
C02F 3/34 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/10
FI (5)：
C02F3/34 101B ,  C02F3/34 101A ,  C02F3/34 101D ,  C02F1/44 F ,  C02F3/10 Z
F-Term (34)：
4D003AB02 ,  4D003BA03 ,  4D003CA02 ,  4D003CA08 ,  4D003DA09 ,  4D003EA30 ,  4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA41 ,  4D006HA93 ,  4D006JA53 ,  4D006JA55A ,  4D006KA01 ,  4D006KA13 ,  4D006KA17 ,  4D006KA63 ,  4D006KA72 ,  4D006KB13 ,  4D006KB22 ,  4D006KB23 ,  4D006KB25 ,  4D006KD28 ,  4D040BB02 ,  4D040BB05 ,  4D040BB23 ,  4D040BB24 ,  4D040BB42 ,  4D040BB54 ,  4D040BB57 ,  4D040BB91 ,  4D040BB92 ,  4D040BB93
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (14)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM