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J-GLOBAL ID：200903081632900339
X線照射装置及びX線発生位置検出器
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
細江 利昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998228890
Publication number (International publication number)：2000056099
Application date： Aug. 13, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：
【要約】【課題】 標的材料交換後や経時的影響によるX線照射位置の変動を無くするか、低減することができるX線照射装置を提供する。【解決手段】 レーザー光103は、レンズ101により、標的104上に集光され、プラズマ105を生成する。プラズマ105から発生したX線は、照明光学系109によりマスク110上に照射し、結像光学系111によりレジスト112上にマスクパターンの像を形成して露光する。X線ピンホールカメラ113が、標的104の法線に対してX線光学系の光軸方向と対称な位置に配置されている。CCD115の出力画像は画像取り込み装置116を介して制御装置117に取り込まれ、X線源の位置が求められる。制御装置117は、ステージ駆動装置118を介して標的移動用ステージ106を移動させ、標的104の位置を変えてX線源位置が許容範囲内に収まるようにする。
Claim (excerpt)：
レーザー光を真空容器内の標的材料上に集光し、当該標的物質をプラズマ化してプラズマから輻射されるX線を被照射物体上に照射するX線照射装置であって、使用状態において、X線発生位置が所定の位置になるように制御するX線発生位置制御装置を有してなることを特徴とするX線照射装置。
IPC (2)：
FI (2)：
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