Pat

J-GLOBAL ID：200903081702611739

レジストパターンの形成方法

Inventor： 佐藤 丈司 ,  田島 享
Applicant, Patent owner： 松下電子工業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992060032
Publication number (International publication number)：1993267154
Application date： Mar. 17, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】 発泡現象と形状変化を抑え、耐エッチング性に優れたレジストパターンを実現する。【構成】 レジストパターンに対して露光、現像の後、約110°Cの温度で第一の熱処理がなされる。これに、第二の熱処理として第一の熱処理温度より低い第二の温度(70°C)から昇温しつつ紫外線(UV)を照射する。70°Cの温度において、まず、弱い紫外線を照射しながら一定時間熱処理をする。続いて強い紫外線を照射しながら処理温度を徐々に上昇させて行き、昇温の途中で紫外線照射を止め、さらに140°Cまで昇温後その温度で一定時間熱処理をする。

Claim (excerpt)：

露光、現像により基板上に形成されたレジストパターンを第一の温度で処理する工程と、前記第一の温度よりも低い第二の温度から、第三の温度まで昇温しつつ処理する間に紫外線を照射する工程とを有し、前記紫外線の照射は前記第一の温度よりも低い温度で開始することを特徴とするレジストパターンの形成方法。

FI (2)：

H01L 21/30 361 P ,  H01L 21/30 361 Q