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J-GLOBAL ID:200903081706892147

真空管の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三好 秀和 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991189848
Publication number (International publication number):1993036347
Application date: Jul. 30, 1991
Publication date: Feb. 12, 1993
Summary:
【要約】【目的】 本発明は、小型化が可能で量産性を高めることを目的とする。【構成】 基板1主面上の真空室となる凹部2aの内壁に露出する電極1a,4,6を形成する工程、凹部2aの開口部を覆う蓋部8を形成する工程、真空蒸着により蓋部8と基板1との間を密閉する工程を有することを特徴とする。
Claim (excerpt):
真空室内に少なくとも陰極及び陽極を含む電極を備えた真空管の製造方法であって、(a)基板主面上の前記真空室となる凹部の内壁に露出する前記電極を形成する工程、(b)前記凹部の開口部を覆う蓋部を形成する工程、(c)真空蒸着により前記蓋部と基板との間を密閉する工程を有することを特徴とする真空管の製造方法。
IPC (2):
H01J 9/02 ,  H01J 9/40

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