Pat

J-GLOBAL ID：200903081755662017

反射型マスク及びそれを用いた露光装置

Inventor： 三宅 明 ,  渡辺 豊 ,  福田 恵明
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991273197
Publication number (International publication number)：1993088355
Application date： Sep. 25, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 放射ビームを用いた半導体素子製造用に好適な反射型マスク及びそれを用いた露光装置を得ること。【構成】 放射ビームの反射を利用してレジスト面に露光転写する為の回路パターンを有する反射型マスクにおいて、該回路パターンの一部に反射する放射ビームの位相を変化させる位相部材を設けたこと。

Claim (excerpt)：

放射ビームの反射を利用してレジスト面に露光転写する為の回路パターンを有する反射型マスクにおいて、該回路パターンの一部に反射する放射ビームの位相を変化させる位相部材を設けたことを特徴とする反射型マスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 331 M