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J-GLOBAL ID：200903081781813228

自動処理装置

Inventor： 石川 義則 ,  山本 俊明
Applicant, Patent owner： 株式会社カイジョー
Agent (1)： 羽切 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993347816
Publication number (International publication number)：1995183267
Application date： Dec. 24, 1993
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 基板を保持手段により保持して処理槽内の処理液に浸漬して洗浄処理を行う自動処理装置において、該保持手段の乾燥を充分に、且つ、低コストにて、しかも清浄な環境を保ちつつ行うこと。【構成】 保持手段24を極くゆっくりと処理液から引き上げ、処理液がその表面張力により該保持手段から剥離するようになし、以て上記の効果を得ている。

Claim (excerpt)：

複数枚の基板を保持手段により保持して所定経路に沿って搬送する搬送手段を有し、前記基板を前記所定経路内で処理槽内に貯留された処理液により浸漬処理を行い、前記保持手段を処理液から引き出す際の搬送速度が、該処理液がその表面張力によって前記保持手段から剥離して処理槽内に留まるように設定されていることを特徴とする自動処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04 ,  B65G 49/04 ,  B65G 49/07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-144132
  
• 特開平4-317330
  
• 特開平4-144132
  
• 特開平4-317330