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J-GLOBAL ID:200903081811293631

プロジェクション補正方法および装置並びに放射線断層撮影装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井島 藤治 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998259921
Publication number (International publication number):2000083946
Application date: Sep. 14, 1998
Publication date: Mar. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】 金属等によるストリークアーチファクトを除去するプロジェクション補正方法および装置並びに放射線断層撮影装置を実現する。【解決手段】 放射線による複数ビューのプロジェクションから再構成した断層像における放射線高吸収物の像につき、プロジェクションPRj1上での対応位置Piを複数ビューについてそれぞれ特定し、この位置におけるプロジェクションの高周波成分を補正し、補正後のプロジェクションで画像を再構成する。
Claim (excerpt):
放射線による複数ビューのプロジェクションから再構成した断層像における放射線高吸収物の像につき前記複数ビューのプロジェクション上での対応位置をそれぞれ特定し、前記対応位置における前記プロジェクションの高周波成分を補正する、ことを特徴とするプロジェクション補正方法。
IPC (3):
A61B 6/03 350 ,  A61B 6/03 360 ,  G06T 1/00
FI (4):
A61B 6/03 350 S ,  A61B 6/03 360 D ,  G06F 15/62 390 B ,  G06F 15/66 B
F-Term (10):
4C093AA22 ,  4C093BA03 ,  4C093CA13 ,  4C093EB12 ,  4C093FD05 ,  5B057AA08 ,  5B057AA09 ,  5B057BA03 ,  5B057BA12 ,  5B057CE06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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