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J-GLOBAL ID：200903081848256280

フッ素含有アセタールまたはケタール構造を有する単量体、重合体、ならびに化学増幅型レジスト組成物

Inventor：
前田 勝美

About 前田 勝美

, 
中野 嘉一郎

About 中野 嘉一郎


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002051285
Publication number (International publication number)：2003252928
Application date： Feb. 27, 2002
Publication date： Sep. 10, 2003
Summary：
【要約】【課題】 波長180nm以下の露光光を用いたフォトリソグラフィ用化学増幅レジストにおけるレジスト樹脂に適する、透明性に優れた重合体の提供。【解決手段】 下記一般式(1):【化1】(式中、Rは、重合活性を示す炭素-炭素二重結合を含有する原子団を表し、R1、R2の一方は、炭素数1〜20のフッ素化されたアルキル基、またはフッ素化されたアリール基であり、R3は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ置換アルキル基、フッ素化されたアルキル基、アリール基、フッ素化されたアリール基、アラルキル基、フッ素化されたアラルキル基からなる群より選択される基を表す。)で表されるフッ素含有アセタール構造またはケタール構造を有する、重合活性を示す単量体を重合してなる繰り返し単位を含む重合体。
Claim (excerpt)：
下記一般式(1):【化1】(式中、Rは、重合活性を示す炭素-炭素二重結合を含有する原子団を表し、R1、R2は、独立に、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状または環状のアルキル基、フッ素化されたアルキル基、アリール基、フッ素化されたアリール基からなる群より選択される基を表し、少なくとも、R1、R2の一方は、前記フッ素化されたアルキル基、またはフッ素化されたアリール基であり、R3は、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状または環状のアルキル基、アルコキシ置換アルキル基、フッ素化されたアルキル基、アリール基、フッ素化されたアリール基、アラルキル基、フッ素化されたアラルキル基からなる群より選択される基を表す。)で表されるフッ素含有アセタール構造またはケタール構造を有する、重合活性を示す炭素-炭素二重結合を含有する単量体。
IPC (8)：
C08F 16/14 ,  C07C 69/653 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/36 ,  C08F 20/42 ,  C08F 32/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (8)：
C08F 16/14 ,  C07C 69/653 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/36 ,  C08F 20/42 ,  C08F 32/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (34)：
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ30 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BP10 ,  4H006KE00 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08P ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA12P ,  4J100BB10P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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