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J-GLOBAL ID：200903081861060115

ビームポジシヨナ

Inventor： 臼井 健
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991151862
Publication number (International publication number)：1993002146
Application date： Jun. 24, 1991
Publication date： Jan. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板毎に加工面高さが違う場合や、同一基板内でも部品の加工面高さが種々異なる場合であっても、焦点ぼけや位置ずれなしに、連続して良好な状態の加工ができるレーザ加工機用のビームポジショナを得ることである。【構成】 それぞれ回転軸に反射ミラー23と24とを取付けた2軸の偏向用ガルバノメータ21と22と、f・θ型の対物レンズ31とからなる基本構成のビームポジショナにおいて、f・θ型の対物レンズ31に入射する光ビームを発散気味あるいは絞り気味に調整することにより焦点位置を前後に調整する焦点調整用光学系11と、この焦点位置調整にともなって発生する集光位置ずれを補正する位置補正回路41を付加して構成され、位置補正回路41が前記焦点調整用光学系11から出力される焦点位置信号5を用いて前記ガルバノメータ21と22とに供給される位置制御信号に補正を行うものである。

Claim (excerpt)：

所定の横断面を持つ平行な入射ビーム(1)を、互いに直交するX軸およびY軸によって規定される被加工面の、X軸およびY軸位置制御信号で(2,3)で指示される2次元位置へ向けて偏向手段(21,22,23,24)によって偏向し、該偏向されたビームを所定の焦点距離をもつ焦点結像手段(31)によって前記2次元位置で焦点を結ばせるビームポジショナにおいて、前記被加工面の高さ方向の焦点位置を指示する焦点位置制御信号(4)に応答して、前記入射ビーム(1)の前記所定の横断面の大きさを変化させることによって前記焦点結像手段(31)の前記所定の焦点距離を調整する焦点調整手段(11,14)と、該焦点調整手段(11,14)の焦点調整による前記2次元位置のずれを補正するために、前記X軸およびY軸位置制御信号(2,3)を補正し、該補正されたX軸およびY軸位置制御信号(7,8)を前記偏向手段へ供給する位置補正手段(41)とを有することを特徴とするビームポジショナ。

IPC (3)：

G02B 27/00 ,  B23K 26/04 ,  B23K 26/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-229419
  
• 特開昭59-189306