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J-GLOBAL ID：200903081889541305

フォトマスク

Inventor： 渡辺 陸司 ,  植月 正雄
Applicant, Patent owner： 株式会社クラレ
Agent (1)： 杉本 修司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992059013
Publication number (International publication number)：1993224396
Application date： Feb. 10, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感光性樹脂上に所定のパターンで露光するときの光の利用効率を高めて、露光時間の短縮を図るとともに、複雑な3次元形状のパターンを容易に形成でき、しかも、着色や光劣化などの副反応を招くことなく、耐久性に優れたパターンを容易に転写できるフォトマスクを提供する。【構成】 前面側に配置した感光性樹脂(被加工部材)4上に、所定のパターンにしたがって集光して露光するレンズアレー11を備えたマイクロレンズにより、フォトマスク10を構成する。このフォトマスク10は光不透過部がないので、光利用率が高い。また、光の強度分布を適宜コントロールすることにより、複雑な形状のパターンが容易に得られる。さらに、被加工部材の裏面近傍に合焦させて露光することにより、被加工部材の表面側の着色や光劣化を抑制できる。

Claim (excerpt)：

背面側からの光を前面側へ透過させて、前面側に配置された被加工部材上に、所定のパターンで露光を行なうフォトマスクであって、上記所定のパターンにしたがって集光して露光するレンズアレーを備えたマイクロレンズからなるフォトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-149285
  
• 特開昭56-168654
  
• 特開平3-020733