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J-GLOBAL ID：200903081955098221

カーボネート樹脂膜、及びそれを用いた電子写真感光体

Inventor： 大嶋 孝一 ,  橋本 充 ,  野村 晋一 ,  須田 文之 ,  田中 聰 ,  福田 洋一
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー ,  スタンレー電気株式会社
Agent (1)： 小松 秀岳 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991312287
Publication number (International publication number)：1993148619
Application date： Nov. 27, 1991
Publication date： Jun. 15, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 有機溶媒を用いることなく得られる真空装置内での真空蒸着による蒸着膜、及びそれを用いた有機電子写真感光体を提供する。【構成】 基板上に下記一般式(1)〜(2)等で示される群から選ばれた少なくとも1種の多価ヒドロキシ化合物、下記一般式(5)等で示される群から選ばれた少なくとも1種のカーボネート化合物、及び必要に応じて金属アセチルアセトン化合物を基板上に真空蒸着した膜を大気、又は不活性ガス中で加熱処理してなるカーボネート樹脂膜。(式(1)〜(2)中、R1は水素、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子であり、R2,R3は水素、炭素数1〜8のアルキル基又はフェニル基であり、m=1〜4)(式(5)中R1は、水素、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子であり、R2は、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基又はトリル基であり、m=1〜4)

Claim (excerpt)：

基板上にA.下記一般式(1)〜(4)で示される群から選ばれた少なくとも1種の多価ヒドロキシ化合物、B.下記一般式(5)及び(6)で示される群から選ばれた少なくとも1種のカーボネート化合物、及び必要に応じてC.金属アセチルアセトン化合物を基板上に真空蒸着した膜を大気、又は不活性ガス中で加熱処理してなるカーボネート樹脂膜。【化1】(式(1)〜(3)中、R1は水素、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子であり、R2,R3,R4は水素、炭素数1〜8のアルキル基又はフェニル基であり、m=1〜4)【化2】(式(4)中、R1は水素、炭素数1〜5のアルキル基、フェニル基であり、R2〜R7はそれぞれ水素、炭素数1〜4のアルキル基、あるいはハロゲン原子である。)【化3】(式(5)、(6)中R1は、水素、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子であり、R2は、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基又はトリル基であり、m=1〜4)

IPC (6)：

C23C 14/12 ,  C08G 64/06 NPT ,  C08G 64/14 ,  C08G 64/30 NPU ,  C23C 14/58 ,  G03G 5/05 101