染色されたフォトレジストとその方法及びそれからなる工業製品

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐伯憲生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997307762
Publication number (International publication number)：1998186647
Application date： Oct. 06, 1997
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は新規なフォトレジスト及びそれに用いる染料化合物を提供する。【解決手段】本発明は、樹脂バインダー、光活性成分、特に酸発生剤、及び、1つ又はそれ以上の発色団を含有する染料物質からなる新規なフォトレジスト組成物に関する。本発明のフォトレジスト組成物は、照射線の望ましくない反射を減少させることができる。本発明の好ましい染料化合物は、遠紫外領域に吸収帯を有するアントラセンや他の多環式部分などからなる発色団を1つ又はそれ以上有する高分子物質である。

Claim (excerpt)：

樹脂バインダー、光活性成分及びアントラセン基を含有する染料化合物からなるフォトレジスト組成物。

IPC (8)：

G03F 7/004 506 , C08L 33/06 , C09B 69/10 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , G03F 7/30 , H01L 21/027 , C08F 20/10

FI (8)：

G03F 7/004 506 , C08L 33/06 , C09B 69/10 B , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , G03F 7/30 , C08F 20/10 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

染色されたフォトレジストとその方法及びそれからなる工業製品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-290286 Applicant：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-001807 Applicant：株式会社東芝
遠紫外線用レジスト組成物及びこれを用いた微細パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-083199 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社

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